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遙遙領先!?什麼!中國自製深紫外光(DUV),可做到8奈米晶片?深入探討中芯國際的製程能力!

2024-9-24 19:04| 发布者: admin8| 查看: 89| 评论: 0|文章/视频分享来自: 曲博科技教室 Dr. J Class




遙遙領先!?什麼!中國自製深紫外光(DUV),可做到8奈米晶片?深入探討中芯國際的製程能力!

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🏮【科技大哉問EP137】深度解析中國自製深紫外光(DUV)能做8奈米晶片嗎?中芯國際的製程能力到底如何?🏮

00:00 開場大綱 | Introduction
01:54 什麼是積體電路(IC:Integrated Circuit)?
03:52 如何將光罩上的圖形轉移到矽晶圓上?
07:20 什麼是曝光機的「疊對誤差(Overlay)」或「套刻精度」?
09:51 中國大陸工信部到底發表了什麼?
16:33 什麼是「自對準多重曝光(SAMP:Self Aligned Multiple Patterning)」?
19:04 使用自對準多重曝光需要更低的「疊對誤差」
22:11 中芯國際目前的製程能力到底如何?
25:02 到底目前中國自製深紫外光(DUV)曝光機製程能力如何?
24:18 結論 | Conclusion
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#深紫外光 #DUV #8nm #8奈米 #先進製程 #中芯國際 #曝光機 #光刻機 #asml #艾司摩爾 #極紫外光 #EUV
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