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撼動晶片業!日本開發出便宜EUV!?台積電不用當盤子了!?極紫外光EUV大解密!

2024-10-29 22:15| 发布者: admin8| 查看: 47| 评论: 0|文章/视频分享来自: 曲博科技教室 Dr. J Class




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🏮【科技新未來 EP107】極紫外光(EUV)大解密!日本科學家想要簡化反射鏡提升效率降低成本如何做到?🏮

00:00 開場 | Introduction
01:54 如何提高光學系統的分辨能力?
05:44 艾司摩爾(ASML)的極紫外光微影(EUV)系統簡介
07:00 蔡司(Zeiss)全球獨家的反射鏡加工技術
08:39 高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)的反射鏡有什麼不同?
13:20 光源光罩最佳化(SMO)如何進行?
15:47 極紫外光(EUV)曝光機的改良方法
18:14 新型極紫外光(EUV)系統的光學模擬結果

【資料來源】
Tsumoru Shintake教授發表在Proc. Photomask Japan symposium, Yokohama 2024
Okinawa Institute of Science & Technology Graduate University
Can we improve the energy efficiency of EUV lithography?
https://www.researchgate.net/publication/380730219_Can_we_improve_the_energy_efficiency_of_EUV_lithography

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歡迎加入知識力官方Line
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#EUV #ASML #台積電 #極紫外光 #先進製程 #TSMC #日本 #科學家 #蔡司 #高數值孔徑極紫外光 #HIGHNAEUV #Tsumoru #Shintake
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