又有新進展!?台積電攜手台大突破2奈米GAA困境!竟然用微波爐也能做先進製程? ※全新 MM Prime 會員方案將在 2022 年 12 月上線,享有更全面的研究工具箱、ETF 專區等功能,並在未來持續享有專屬開發的新服務,12 月前成為 MM PRO,將以原訂閱價自動升級為 MM Prime 會員! 加入 MM Prime 享自動升級👉 https://pse.is/4lnu7g ※曲博官方Line群正式開張,歡迎大家加入,一起從討論中成長! 加入連結 👉 https://ansforce.page.link/Drjline2 ※曲博頻道會員已開啟,想要加入的伙伴可以直接點選這個連結,一起讓科技成長茁壯!👉 https://ansforce.page.link/JoinYT ※曲博科技教室所有的影片可以在這裡直接用關鍵字搜尋👉 https://ansforce.page.link/Drjlist 🏮【科技新未來 EP72】台積電攜手台大與康奈爾大學:用微波爐突破2奈米環繞閘極(GAA)製程困境🏮 三星宣佈未來3奈米以下都要用環繞閘極(GAA)製程來做,三星趕進度,台積電當然也不能洩氣,台積電攜手台大與康奈爾大學,透過微波爐突破2奈米環繞閘極(GAA)製程困境,這是怎麼做到的呢?今天讓我們來看看吧! 00:00 開場大綱 | Intro, Summary 03:06 電晶體為什麼會產生短溝道效應? 05:40 什麼是半導體的摻雜(Doping)? 07:20 什麼是半導體的退火(Annealing)製程? 08:17 如何使用微波爐製作2奈米晶片? 11:01 如何利用微波爐突破環繞閘極(GAA)的製程困境? 13:00 結論 | Conclusion 訂閱我的Youtube頻道:https://ansforce.page.link/DrjYT 按讚粉絲專頁,掌握最新趨勢:https://ansforce.page.link/DrjFB 【參考資料】 Pine發表在量子位 2nm工藝進展受阻,微波爐成關鍵突破點 https://www.qbitai.com/2022/09/37738.html Chun-Hsiung Tsai and Chih-Kung Lee等人發表在Appl. Phys. Lett. 121, 052103 (2022) Efficient and stable activation by microwave annealing of nanosheet silicon doped with phosphorus above its solubility limit. https://aip.scitation.org/doi/full/10.1063/5.0099083 【知識力專家社群】 https://www.ansforce.com 歡迎加入知識力官方Line https://bit.ly/ansforceline #台積電 #2奈米 #GAA #環繞閘極 #GAAFET #三星 #Samsung #3奈米 #2nm #3nm #微波爐 #TSMC #TSM #巴菲特 #台大 #康乃爾大學 曲博科技教室 Dr. J Class 更多视频/文章……
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